拋光氧化鋁的拋光方法優(yōu)劣決定于拋光后試樣表面的質(zhì)量。因此評價各種拋光方法必須確定比較拋光面質(zhì)量的標準，比較*后拋光表面的反光能力是判斷拋光表面質(zhì)量的靈敏方法。這個方法是把晶體的解理表面，或在超真空下成長的單晶體表面作為理想表面；把*后拋光表面測試所得的反光能力與其理想表面測試所得反光能力比較，用其平均偏差大?。ā?span lang="EN-US">R）來表示拋光表面的質(zhì)量。△R愈大，表面反光能力愈小，質(zhì)量愈差。

各種材料用任何拋光方法所得到的表面與其理想的解理表面相比，它們的質(zhì)量都是比較低的，△R大于零。用廣泛流行的拋光技術(shù)，氧化鋁磨料拋光，拋光表面的質(zhì)量*差。而電解拋光和顯微切片機切割的試樣表面，表面質(zhì)量接近理想的解理表面。此外從圖中也可以看到，不同拋光方法的效果，因材料而異，Sb2S3材料用氧化鋁糊漿拋光與金和銅用電解拋光得到的表面質(zhì)量一樣。

試樣制備的方法不同，可使實際結(jié)果偏離理想的結(jié)果，因此，根據(jù)材料選擇拋光氧化鋁拋光方法是非常重要的。但是在解決實際檢驗問題時，只要能滿足實際的要求，一般采用簡便經(jīng)濟的方法。氧化鋁和其他氧化物廣泛應(yīng)用于拋光，就是因為這個原因。